1月24日，苏大维格发布业绩预告称，公司预计2021年度实现营业收入18亿元-18.5亿元，同比增长29.28%-32.88%；归属于上市公司股东的净利润-4.3亿元至-3.7亿元，同比下降914.12%-800.53%，上年同期盈利为0.53亿元。
另外，苏大维格预计2021年年度归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为-4.6亿元至-4亿元，同比下降4245.29%-4867.09%，上年同期盈利为0.1亿元。
关于业绩变动的原因，苏大维格表示，报告期内，公司营业收入整体出现较快增长。其中，新型印材业务、消费电子领域的新材料业务均实现了快速增长；但主要受疫情等因素影响，反光材料领域相关业务收入规模略有下滑。
另外，苏大维格于2016年收购常州华日升反光材料有限公司（以下简称“华日升”）100%股权，以合并成本超过华日升可辨认资产、负债公允价值的差额 46,505.51万元确认为商誉，根据评估机构出具的商誉减值测试报告，公司已分别于2018年度、2020年度分别计提商誉减值准备4,347.19万元、2,995.26万元。因华日升经营业绩远低于预期，商誉出现减值迹象。
同时，公司对各项资产进行了全面清查，对各项资产减值的可能性进行了充分的评估和分析，经公司财务部门初步测算，本报告期计提减值准备的金额为38,000万元-43,000万元，对公司2021年度经营业绩产生重大不利影响。
此外，报告期内，苏大维格部分原材料价格波动较大以及对新技术、新产品研发投入大幅增加；报告期内，预计非经常性损益对净利润的影响金额约为3000万元。
苏大维格简介
苏州苏大维格科技集团股份有限公司 （简称苏大维格）致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用，**企业。
经多年发展，苏大维格成为微纳光电材料、新型显示和纳米印刷领域自主创新的典型企业，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示（大尺寸电容触控屏，超薄导光板）、高端智能微纳装备（纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等）的研发与产业化， 在深交所A股创业板上市（苏大维格300331）。
五个厂区：
总部地址（新昌街厂区）：苏州工业园区新昌路68号（独墅湖大道南侧2）。占地70亩，3万平米厂房。
公司总部、运营中心和研发中心位于新昌路厂区，建有“微纳柔性材料与器件”新品研发与产线，生产光学薄膜、烫金材料和防伪证卡材料、纳米压印镭射薄膜。
苏州维业达触控科技有限公司iVtouch位于此厂区区，4000平米千级净化厂房和先进触控传感器产线，研发生产大尺寸电容触控屏、大尺寸平板终端产品。自主研发的新型透明导电材料填补了行业空白。应用于大尺寸触控显示器、智能交互终端和电磁屏蔽等领域。
第一厂区（钟南街厂区）：苏州工业园区钟南街478号（苏虹东路北侧，占地36亩，厂房1.5万平米）。苏州维旺科技有限公司NicroTek位于该厂区，4000平米洁净厂房，超薄导光器件和装备研发基地，生产超薄导光膜和导光板，自主研发柔性导光板精密卷对卷压印模具和设备工艺。应用于智能手机、平板电脑、笔记本、电子书背光和前光源、车用照明器件。
第二厂区（泗阳厂区）：江苏宿迁泗阳经济开发区厂区，占地100亩，厂房2.2万平米（一期）。 主要研发制造镭射光学包装新材料、印刷包装材料和发光材料等。
第三厂区（常州厂区）：江苏省常州市钟楼区邹区镇岳杨路8号，常州华日升反光材料有限公司位于该厂区。公司主营产品包括：棱镜级、高强级、工程级、广告级、车牌级系列反光膜，车身反光标识，系列喷绘膜和发光膜等。
第四厂区（双泾街厂区）：江苏省苏州工业园区双泾街59号，苏州迈塔光电科技有限公司位于此厂区。公司主要研发制造光电薄膜、微纳光学元件、光电材料及制品等。
应用行业：
新型显示、安全防伪、信息技术和印刷包装、教育科研等行业。
客户为国内外上市公司、著名企业和高等院所。
1、器件应用： 平板电脑，智能手机等
2、新型光学印材和薄膜：印刷包装、品牌印材（蓝色经典、云烟）等；
3、智能微纳光刻直写设备：国内外著名企业、高等院所，国外日本、以色列等国。
一万平米洁净实验室，面向新型显示AR、照明和成像领域的工程研发与检测、国际一流创新团队-江苏省优秀创新团队，共同创新创业。拥有大幅面高分辨率微纳图形化系统、UV纳米压印系统、精密激光加工系统、精密涂布与蒸镀系统。为新型显示、触控终端、光学成像、超薄照明、光学膜与印刷材料领域的产品研发，提供了先进制造手段。
截止2018年底，在微纳制造领域累计公开专利申请431件，发明专利255件，授权221件，发明授权100件，软著10件。多项产品拥有自主知识产权：
1、纳米烫印光变色薄膜（发明专利）
2、定位镭射包装材料（发明专利）
3、大幅面微纳混合光刻直写装备（参加国家十二五科技创新成就展，发明专利）
4、大尺寸电容触控柔性传感器（采用嵌入式微网格工艺实现55英寸工业化、发明专利）
5、卷对卷超薄导光板压印产线（发明专利）
6、连续变空频纳米光刻设备（发明专利）